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產品詳細頁
韓國NanoSystem非接觸光學表面形貌測量系統

韓國NanoSystem非接觸光學表面形貌測量系統

產品介紹

韓國NanoSystem非接觸光學表面形貌測量系統

型號:NanoView-1800/NanoView-2400/NanoView-2700

 

高精度非接觸式表面形貌檢測

無損3D表面輪廓分析

宜用平臺提供快速、高效的工藝流程的監控

全面、直觀的軟件提供了式樣和應用靈活性

 

 

主要功能

3D形貌測量

高,深,間隔(從納米級到5mm

粗糙度(R參數)表面(S參數)

面積信息(體積,面積)

2D測量

 

NanoView可靠性在許多應用領域發揮性能。

NanoView 提供完整的表面形貌納米測量和分析技術方案。

 

韓國NanoSystem非接觸光學表面形貌測量系統

NV-Serise技術參數

型號

NanoView-1800

NanoView-2400

NanoView-2700

測量原理

非接觸三維 白光掃描干涉法(WSI/移相干涉法(PSI

現場放大鏡

1.0×(標配)

1.0×(標配)

1.0×(標配)

物鏡

單鏡頭

可選5個鏡頭(手動鼻輪)

可選5個鏡頭(自動鼻輪)

光源

白光LED光源

掃描方式

閉環控制壓電促動掃描方式

縱向掃描范圍

Max 270um(可拓展到:5mm

縱向掃描速度

12um/sec1X~5X倍率可選)

傾斜

±3°(樣品臺傾斜)

頭部傾斜±5°(手動模式)

頭部傾斜±5°(自動模式)

縱向分辨率

WSI:0.5nm / PSI:0.1nm

橫向分辨率

0.2~4um(取決于物鏡/視場放大鏡倍率)

臺階重復性

0.5%1s

XY樣品臺行程

140×140mm(手動)

230×230mm(自動)

230×230mm(自動)

XY樣品臺行程

50×50mm(手動)

100×100mm(手動)

100×100mm(自動)

Z軸行程

30mm(手動)

100mm(手動)

100mm(自動)

環境要求

溫度:15~30℃,溫度變化量:<1/15min

濕度:<60%,無凝結

 


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